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    光學技術研發實驗室

    徐華和李默這兩位負人正在為極紫外光源技術的幾問題進行討論。

    博士，雖然我們有複眼鏡頭的加持，是在靶材、碎屑汙染是問題啊！

    徐華有些犯愁。

    雖然蜂複眼鏡頭技術的出現，從某種程度上解決了極紫外光源的核心鏡片問題，但仍舊有一些問題存在。

    眾所周知，euv極紫外光刻機最為關鍵的部就是極紫光源，這就不用說了。

    而極紫外光源主要有五大鍵的問題技術需攻破，才能正式製出該源。

    其一是多層膜反射鏡，由於euv光源子能量極高，幾乎可被所有介質所吸收，較高反射率可以極大提高光源性能。

    過研究發現，采用/si多層膜製備出的反射鏡對中波長為13.5n譜帶在2%以內euv光的反射率可達70%。

    而這一技術在許拿出複眼鏡頭技術之後，經一番實驗也攻克了。

    其二——靶材，為降低離子碎屑、提高euve，人開始漸減小sn靶的尺寸，並終將液滴sn靶作為主要研對。

    但是液滴sn的時空的不穩定性，也給光刻機源的設計製造增加了難度。

    其三其四分別是驅動源和雙脈衝式，這不過多講解。

    最後就是碎屑汙染的問，激光等離通過激將入射到靶材產生高溫、高度的等離子體並輻射euv光，其過程必然會產生定碎（由熔融液滴、微粒團簇、中性碎屑原子和高能離子組成）。

    這些碎屑不處理好的，也會損壞光刻機光元件，進而影響其能，甚至對人體健康也有一定的影。

    目前市售euv光刻機產品均采入惰性氣或氫氣和外加磁場相結合的方案除去碎屑，當然也可以采用雙脈衝方案去除。

    不過這兩種方案皆是不適用於現在所設計的光源。

    所以還需要重新商討設計一個去碎屑的方案。

    怎了？你們愁眉苦臉的樣子。

    一道熟悉的聲音在他們耳邊響起。