839 最後的戰役(二)

類別:都市言情 作者:南柯一涼 本章:839 最後的戰役(二)

    滬市,張江技術園區。

    中微半導體總部的四周,布置了密密麻麻的電網和監控器,安保力量更是配備齊全。

    一座不起眼的工廠,沙領導、鄭韓等一眾領導,在陸飛的帶領下,來到車間外。

    隔著玻璃窗,就能看到一個巨型公交車大小的光刻機,身穿防塵服的工作人員正在操控這樣的龐然大物,一個工作***成掃描曝光的同時,另一個工作台也進行對準、調焦、下片等行動。

    「因為芯片製造的過程中,並不是一次曝光就可以完成,而是需要經曆多次曝光。」

    「在曝光完一個區域之後,放置矽晶圓的曝光台就必須快速進行移動,接著曝光下一個需要曝光的區域,想要在這多次快速移動中實現納米級別的對準,雙工作台就必須做到精度高而且操作時間短,這項技術本來隻有ASL有,但現在已經被我們突破了。」

    陸飛滔滔不絕,如數家珍。

    領導們一言不發,目不轉睛地盯著運行中的光刻機,雖然不是第一次見到光刻機,但一想到這是第一台國產的DUV浸潤式光刻機,都壓不住激動的心情,盡可能地往前靠,想湊得更一些,看得更清楚一些。

    「了不起啊,小陸,你們了不起啊。」

    沙領導滿意道:「我記得是7年前還是8年前,也是在這,你讓我看的是65n幹式光刻機,還向我保證絕對能搞出屬於我們自己的國產的浸潤式光刻機,我本來以為要花10年甚至更長的時間,沒想到你給了我們一個大大的驚喜啊!這快讓你們搞出來了!」

    「哪,哪,領導。」

    陸飛露出謙虛而內斂的笑容。

    「說說吧,到底是怎搞出來的?」

    沙領導眼滿是讚賞之色。

    「其實這並不是邏輯和中微兩家的功勞,我們隻負責整體的統籌調度和集成研發。」

    陸飛笑道:「DUV浸潤式光刻機能成功,完完全全歸功於參與到整個項目的全體員工、科研人員們,是他們的血汗和信念,才有了今天的光刻機,當然也離不開領導們的支持,地方上的政策,還有相關公司、院校、國企單位的合作。」

    頓了頓,「可以說,這台DUV浸潤式光刻機凝結了華夏半導體從業人員的智慧和野心,也代表著目前國內光刻機的最高水平,距離國際一線的EUV光刻機,隻有一代的代差了。」

    「生產7n的良品率是多少?」

    鄭韓臉上掛著得意的笑容。

    畢竟,如此國之重器出自張江技術園區,滬市毫無疑問當得上「華夏半導體之都」。

    「不同的芯片不同的良率,但基本能穩定在70%,慢慢調試改進,可以達到80%。」

    陸飛比比畫畫道:「完全可以比肩ASL,隻用4個光罩、4次曝光,就可以達到7n製程工藝。」

    沙領導問道:「現在邏輯和華為的手機用的都是7n製程工藝的芯片對嗎?」

    陸飛點了下頭,「沒錯,7n是目前市麵上最先進的製程工藝,不過根據摩爾定律,再過個一兩年,就可能突破到5n。」

    「5n是不是就需要EUV光刻機了?」

    鄭韓好奇道。

    「有EUV光刻機固然是好,隻要一次曝光,一個光罩就能實現7n、5n,但沒有EUV光刻機也無妨,有這台DUV浸潤式光刻機也可以做到。」

    陸飛露出個看似輕鬆的笑容。

    「喔?」

    頃刻間,一眾領導的目光齊聚於他。

    「梁博士想到的方案,如果把光刻機極限使用,經過6個光罩,9次曝光,也可以實現5n工藝。」

    839 最後的戰役(二)



    陸飛直截了當地回答。

    一個戴著玳瑁眼鏡的領導擔憂道:「光刻機這極限使用,會不會影響到使用壽命?」

    「還有良率。」

    「是啊,經過這多道曝光,任何一道工序失敗,都可能滿盤皆輸,成本就上來了……」

    領導們來回分析,議論紛紛。

    陸飛隻能一一回答,「損害壽命肯定會損害,良率低也肯定會低一些,成本自然也就會高一點,但這是沒有辦法的辦法,目前EUV光刻機國產化要實現徹底突破,還有不少技術難題擺在麵前,需要時間去攻破。」

    「比如呢?」

    沙領導投去問詢的目光。

    「光刻機的技術難點主要集中在光源、反射鏡、工作台,現在雙工作台已經解決了,光源問題也突破了,就剩下物鏡係統。」

    陸飛直說道:「ASL、尼康的光刻機用的是蔡司的技術,但蔡司願意賣給ASL、尼康,但絕對不會出口給我們。」

    然後歎了口氣,「沒辦法,我們隻能從零開始,聯合長春光機、徠卡、華為等聯合研發,現在搞定了DUV浸潤式的物鏡係統,至於EUV的,恐怕需要很長一段時間。」

    「那這期間,複芯、中芯的晶圓代工,有沒有可能會被台積電、英特爾的差距拉大?」

    鄭韓皺了皺眉。

    「肯定會,但好在情況並不糟糕。」

    陸飛笑道:「雖然5n是目前我們的極限,理論上而言,台積電、英特爾、三星這些有EUV光刻機的,製程工藝甚至可以衝擊到1n,但得到的回報並不會太高。」

    不少領導感到奇怪,「為什這說?製程工藝難道不是越先進越好嘛?」

    「理論上是這樣,但事實是現在全球智能機領域已經有‘性能過剩"的趨勢,搭載5n芯片的手機體驗,未必就不如3n,就會讓3n及以下工藝陷入一種尷尬的地步,飆升的成本卻隻得到微弱的性能提升。」

    陸飛嘿然一笑,「反倒是28n、14n和7n這三個節點的工藝才是市場主流,特別是我們國內絕大部份的芯片需求,所以有了國產的DUV浸潤式光刻機,基本可以保證我們不會也不怕被卡脖子,也能保證支撐到我們研發出EUV光刻機的那一天。」

    眾人兩兩相望,相視一笑。

    確實,28n是集成電路產能中劃分中低端跟中高端的分界線。

    除了對功耗要求比較高的CPU、GPU、AI芯片外,其餘的工業級芯片用的都是28n以上的技術,比如電視、空調、汽車、高鐵、火箭、衛星、工業機器人、電梯、醫療設備、智能手環、無人機……

    但現在,7n,甚至不計任何代價,極限可以推到5n,簡直是綽綽有餘。

    「你們在資金上、政策上、人才上,或者在其他方麵,有沒有什需要我們解決的?」

    沙領導慈眉善目。

    陸飛也不客氣,立馬張口。

    一個敢提,一個敢接。

    「我還有個提議,希望領導們能支持。」

    「說。」

    「是這樣,邏輯這些年一直跟水木大學開展了比較另類的秘密項目,那就是研究直接跳過光刻機,建立光刻廠和光刻車間。」

    「光刻廠和光刻車間?!」

    沙領導、鄭韓等人或多或少感到驚訝。

    「對,安裝和調試一台DUv光刻機需要至少一年的時間。」陸飛一本正經說,「而如果直接造光刻廠,把光刻機的整個供應鏈連接起來,就可以擺脫以往單台光刻機的生產模式,轉為流水線生產,根據不同的精度需求,大規模生產各類精度的光

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