這光刻機的原理說起來確實簡單，那製作的難度應該不是很大吧？

    然而事實卻不是這樣的。

    就目前而言，國內自主生產的光刻機最多隻能進行16納米的製作工藝，而且還無法成熟的商用，能成熟運用的僅僅是28納米。

    而阿姆斯公司生產的光刻機卻是能將10納米製程的技術進行商用了，更甚至他們已經能進行7納米製作工藝，而且已經快趨向於成熟了。

    可能要不是現有的矽基材料的物理性質的限製，他們怕是已經突破了7納米，從而達到5納米的製程技術。

    況且他們聲稱，已經找到了新的材料，有望打破芯片的物理桎梏。

    到那個時候，我們想要有自己的芯片技術，想要有自己的操作係統，想要自己的喉嚨不再被對方給遏製住，可能又會難上幾分了。

    終其原因，就是因為這小小的光刻機了，半導體行業的靈魂設備。

    雖然它的原理確實簡單，隻要那稍微一了解就會明白，但是想要把它做的和他們的一樣好，甚至超過他們，那可就難了。

    眾所周知，光刻機是用光波來做為刻刀，進行芯片邏輯電路的刻畫工作的。

    但光波是有長短的，就相當於刻刀一樣，波長越短的波就越是鋒利，而越是鋒利的刻刀就越能刻出更精細的電路圖案。

    而在芯片的製作中，因為工藝的需求，人們對光波長度的需求也是越來越短了。

    所以阿姆斯公司所采用的光是光譜光波最短的光的一種，極紫外光，它是紫光的一員，但卻不是可見光。

    因為它的光波隻有10至14納米的長度，這是人眼根本無法分變的波長。

    而這種光波卻是很難被聚焦，或者說普通的凸鏡無法讓它聚焦，需要使用特殊的凸鏡。

    對於這種難題阿姆斯公司可是足足投資了數十上百億美元，才研發出來了新的產品。

    而我們國內，對於這方麵的困境卻還沒有找到出路，不是鏡片的精細程度不夠，就是材質不對，始終無法讓它達到理想的效果。

    從而導致了製作不出先進光刻機的局麵，也導致了國內芯片行業萎靡的狀態。

    “唉！幾十年的技術差距，可不是一朝一夕就能解決的。”李陽想到這些不由歎息道。

    他知道，麵對著幾十年的技術差距，在科學家、研究員們嘔心瀝血、夜以繼日的努力下終於縮短到了兩代的技術差距，可以說是進步神速了。

    但是，僅僅是勉強追上他們的腳步，和他們還差著兩代的差距就夠了嗎？

    不夠！隻要沒有超過他們，沒有比他們強就遠遠不夠！

    看著眼前正在初級機床加工的“璃”，李陽不由的暗暗的捏緊了拳頭，這是生產光刻機的必須材料！